1.一種流體分配裝置，其包括：
外殼，所述外殼具有外壁和腔室，所述外殼具有界定第一平面的芯片安裝表面并且具
有開口，所述腔室界定內部空間并且具有與所述開口流體連通耦合的端口；
噴射芯片，所述噴射芯片安裝到所述外壁的所述芯片安裝表面，所述噴射芯片的平面
范圍沿著所述第一平面定向，所述噴射芯片與所述開口流體連通，所述噴射芯片的流體噴
射方向基本上正交于所述第一平面；
攪拌棒，所述攪拌棒位于所述腔室中，所述攪拌棒具有旋轉軸，所述攪拌棒的所述旋轉
軸基本上垂直于所述流體噴射方向或平行于所述噴射芯片的所述平面范圍；以及
引導部分，所述引導部分以預定義定向，將所述攪拌棒限制在所述腔室的所述內部空
間的預定部分中。
2.根據權利要求1所述的流體分配裝置，其中所述預定部分構成所述腔室的所述內部
空間中最接近所述端口的1/3容積。
3.根據權利要求1或2所述的流體分配裝置，其中所述攪拌棒的所述旋轉軸在相對于所
述流體噴射方向的垂直加或減45度的角范圍中定向，或在相對于所述噴射芯片的所述平面
范圍的平行加或減45度的角范圍中定向。
4.根據權利要求1或2所述的流體分配裝置，其中所述腔室具有帶有圓角的內部周邊
壁，所述攪拌棒位于由所述內部周邊壁界定的邊界內。
5.根據權利要求1或2所述的流體分配裝置，其中：
所述外殼具有主體和蓋子，所述主體具有底壁以及與所述底壁相鄰的外部周邊壁，所
述外部周邊壁插入所述底壁與所述蓋子之間，所述外壁是所述外部周邊壁的一部分，所述
底壁沿著基本上正交于所述第一平面的第二平面定向；以及
所述腔室位于由所述外部周邊壁界定的邊界內，所述腔室具有帶有圓角的內部周邊
壁，所述攪拌棒位于由所述內部周邊壁界定的邊界內。
6.根據權利要求5所述的流體分配裝置，其中所述腔室的所述內部周邊壁具有由近端
和遠端界定的范圍，所述近端與所述底壁相鄰并且所述遠端界定在所述腔室的橫向開口處
的周邊端面，并且所述流體分配裝置進一步包括：
隔板，所述隔板位于所述蓋子與所述內部周邊壁的所述周邊端面之間，所述隔板通過
與所述周邊端面密封接合的方式接合，所述腔室和所述隔板協作以界定具有可變容積的儲
液室，所述攪拌棒存在于所述可變容積中。
7.根據權利要求6所述的流體分配裝置，其中所述儲液室的所述可變容積具有連續1/3
容積部分和連續2/3容積部分，與所述連續2/3容積部分相比，所述連續1/3容積部分位于更
靠近所述噴射芯片，其中所述攪拌棒的所述旋轉軸位更靠近所述噴射芯片的所述連續1/3
容積部分中。
8.根據權利要求1或2所述的流體分配裝置，其中所述腔室具有底壁，所述底壁沿著基
本上正交于所述噴射芯片的所述平面范圍的第二平面定向，所述引導部分保持所述攪拌棒
的所述旋轉軸具有基本上平行于所述噴射芯片的平面范圍并且基本上垂直于所述底壁的
所述第二平面的定向。
9.根據權利要求1或2所述的流體分配裝置，其中所述腔室具有基本上正交于所述外壁
的底壁，所述引導部分包括：
環形部件，所述環形部件具有界定環形限制表面的開口，所述開口具有中心軸，所述環
形限制表面限制所述攪拌棒相對于所述中心軸的徑向運動；
多個偏移部件，所述偏移部件耦合到所述環形部件并且被定位成在相對于所述中心軸
的第一軸線方向上從所述環形部件延伸，所述多個偏移部件中的每一個具有與所述腔室的
所述底壁接合以建立所述環形部件從所述底壁的軸向偏移的自由端；以及
籠形結構，所述籠形結構耦合到所述環形部件，所述籠形結構具有在與所述第一軸線
方向相反的第二軸線方向上從所述環形部件軸向移位的軸向限制部分，所述軸向限制部分
位于所述環形部件中的所述開口的至少一部分上，以限制攪拌棒相對于所述中心軸在所述
第二軸線方向上的軸向運動。
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