本發(fā)明提供了一種間歇式電沉積制備微米級和/或毫米級包覆型粉體的裝置及其處理方法，裝置包括電鍍槽、動力組件、陰極板、陽極板和電源；電鍍槽槽體一側(cè)設(shè)置動力組件，陰極板鋪設(shè)于電鍍槽底部，陽極板設(shè)于電鍍槽頂部且與陰極板相對設(shè)置，電源通過導(dǎo)線與陰極板和陽極板相連。本發(fā)明結(jié)合微米級和/或毫米級球形粉體自身的特點(diǎn)，通過電鍍槽繞中心軸進(jìn)行左右往復(fù)轉(zhuǎn)動，使微米級和/或毫米級粉體得到充分?jǐn)嚢?，鍍層厚度均勻可控。在此基礎(chǔ)上結(jié)合法拉第電流定律，使裝置可以用于大規(guī)模生產(chǎn)微米級和/或毫米級包覆型金屬粉體。該生產(chǎn)微米級和/或毫米級包覆型粉體的裝置和方法具有低成本，可循環(huán)，易操作且可大規(guī)模生產(chǎn)特點(diǎn)，以滿足工業(yè)生產(chǎn)中的需求。

1.一種間歇式電沉積制備包覆型粉體的裝置，其特征在于，所述裝置包括電鍍槽(1)、
動力組件、陰極板(4)、陽極板(5)和電源(6)；
其中，電鍍槽(1)槽體一側(cè)設(shè)置動力組件，陰極板(4)鋪設(shè)于電鍍槽(1)底部，陽極板(5)
設(shè)于電鍍槽(1)頂部且與陰極板(4)相對設(shè)置，電源(6)通過導(dǎo)線與陰極板(4)和陽極板(5)
相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述動力組件包括電機(jī)(2)和電機(jī)傳動軸
(3)，所述電機(jī)(2)通過電機(jī)傳動軸(3)連接于電鍍槽(1)槽體一側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，所述動力組件帶動電鍍槽(1)繞電機(jī)傳動
軸(3)往復(fù)轉(zhuǎn)動。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，所述動力組件帶動電鍍槽(1)轉(zhuǎn)動的角度
范圍為10°～60°。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置包括動力控制裝置(7)，所述動力
控制裝置(7)與所述動力組件相連。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置包括支架(8)，所述支架(8)支撐
電鍍槽(1)和動力組件。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述電鍍槽(1)為封閉式電鍍槽。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于，所述電鍍槽(1)為封閉式三維立體形狀。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述電鍍槽(1)的形狀為圓柱體或四方體。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述電鍍槽(1)與動力組件密封連接。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述陰極板(4)的長度不大于電鍍槽(1)
的長度。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置，其特征在于，所述陰極板(4)的長度等于電鍍槽(1)的
長度。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述陰極板(4)為二維平面圖形。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的裝置，其特征在于，所述陰極板(4)為二維矩形狀。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述陰極板(4)和陽極板(5)上下平行相
對設(shè)置。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述陽極板(5)固定于電鍍槽(1)頂部內(nèi)
壁。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述陰極板(4)固定于電鍍槽(1)底部內(nèi)
壁。
18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述陰極板(4)的材質(zhì)為金屬單質(zhì)或金屬
合金。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的裝置，其特征在于，所述陰極板(4)的材質(zhì)為銅或不銹鋼。
20.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述陽極板(5)的材質(zhì)為金屬單質(zhì)或金屬
合金。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的裝置，其特征在于，所述金屬單質(zhì)為Cu、Sn、Cr或Ni中任意一
種。
22.根據(jù)權(quán)利要求20所述的裝置，其特征在于，所述金屬合金為Sn-Ag合金或Fe-Ni合
金。
23.根據(jù)權(quán)利要求1-22任一項(xiàng)所述的裝置的處理方法，其特征在于，所述方法包括以下
步驟：
將待電鍍的金屬粉體置于內(nèi)置電鍍液的電鍍槽(1)中，在陰極板(4)和陽極板(5)上施
加脈沖電流并使得電鍍槽(1)進(jìn)行轉(zhuǎn)動，使金屬粉體進(jìn)行間歇式電鍍。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的處理方法，其特征在于，所述待電鍍金屬粉體的粒徑為微米
級和/或毫米級。
25.根據(jù)權(quán)利要求23所述的處理方法，其特征在于，所述待電鍍金屬粉體為球形形狀。
26.根據(jù)權(quán)利要求23所述的處理方法，其特征在于，所述轉(zhuǎn)動為：繞電機(jī)傳動軸(3)以
10°～60°角度往復(fù)轉(zhuǎn)動。
27.根據(jù)權(quán)利要求23所述的處理方法，其特征在于，所述處理方法具體包括以下步驟：
(1)將待電鍍的金屬粉體置于內(nèi)置電鍍液的電鍍槽(1)中；
(2)通過動力組件帶動電鍍槽(1)繞電機(jī)傳動軸(3)以10°～60°角度往復(fù)轉(zhuǎn)動；
(3)向陰極板(4)和陽極板(5)上施加脈沖電流，在一個施鍍周期內(nèi)對粉體進(jìn)行電鍍；
(4)電鍍結(jié)束后，通過動力組件帶動電鍍槽(1)繞電機(jī)傳動軸(3)以10°～60°角度往復(fù)
轉(zhuǎn)動；
(5)重復(fù)步驟(3)～步驟(4)，經(jīng)過清洗和干燥后得到包覆型粉體。