1.一種將聚酰胺膜改性的方法,所述方法包括使所述聚酰胺膜與選自下列各項中的至少一種的材料接觸的步驟:由式(I)表示的化合物,以及衍生自所述由式(I)表示的化合物的聚合物:
![]()
其中:R
1、R
2、R
3和R
4各自相同或不同,并且獨立地選自氫、鹵素、含1至4個碳原子的烷基、以及芳基;Y選自氧和硫;并且Z是環活化基團,所述環活化基團是使陽離子環去穩定化并且提高開環反應性,以及隨后鏈增長的取代基。2.權利要求1所述的方法,其中R
1、R
2、R
3和R
4各自為氫,并且Y為氧。3.權利要求1所述的方法,其中Z選自氫、含1至20個碳原子的烷基、芳基和聚環氧烷基。4.權利要求1所述的方法,其中所述材料包括聚(噁唑啉)。5.權利要求1所述的方法,所述方法包括使所述聚酰胺膜與聚環氧烷材料接觸的步驟。6.權利要求1所述的方法,其中所述材料包括含有由式(II)表示的重復單元的聚合物:
![]()
其中n為2至20,000的整數。7.權利要求6所述的方法,其中R
1、R
2、R
3和R
4各自為氫,Y為氧并且n為50至10,000的整數。8.權利要求6所述的方法,其中Z選自氫、含1至20個碳原子的烷基、芳基和聚環氧烷基。9.權利要求6所述的方法,其中Z選自苯胺、苯-1,3-二胺、羥基、季銨和高分子抗微生物劑。10.權利要求6所述的方法,其中所述聚合物包含化學活性的端基。11.一種聚酰胺膜,所述聚酰胺膜包括聚酰胺表面,其中所述表面的至少一部分包括含有聚合物的涂層,所述聚合物包含由式(II)表示的重復單元:
![]()
其中:n為2至20,000的整數;R
1、R
2、R
3和R
4各自相同或不同,并且獨立地選自氫、鹵素、含1至4個碳原子的烷基,以及芳基;Y選自氧和硫;并且Z是使得所述聚合物可溶于包含至少50重量%的水的水基溶液中的增溶基團。12.權利要求11所述的膜,其中R
1、R
2、R
3和R
4各自為氫;Y為氧;并且n為50至10,000的整數。13.權利要求11所述的膜,其中Z是抗菌基團。14.權利要求11所述的膜,其中Z選自氫、含1至20個碳原子的烷基、芳基和聚環氧烷基。15.權利要求11所述的膜,其中所述聚合物包括聚(噁唑啉)。16.權利要求11所述的膜,其中等于或少于10重量%的所述聚合物包含由式(III)表示的環氧烷的重復單元:
![]()
其中X為碳原子或化學鍵;并且R
4選自氫、含1至4個碳原子的烷基、羥基以及含1至4個碳原子的羥基烷基。17.權利要求16所述的膜,其中所述聚合物是具有由式II表示的重復單元的聚合物與具有由式III表示的重復單元的聚合物的反應產物。18.權利要求11所述的膜,其中Z選自聚環氧烷基。19.權利要求11所述的膜,其中Z選自氫。20.權利要求11所述的膜,其中Z選自含1至20個碳原子的烷基。