為了進一步推動上海半導體器件工藝關鍵裝備研究與制造能力，實現半導體器件工藝裝備的跨越式發展，上海市科學技術委員會特發布2005年《半導體器件制造工藝關鍵裝備技術的研究》重大科技攻關項目。
研制出的裝備必須有明確的用戶，首先能在太陽能生產線上進行實際應用。
一、研究目標、內容和期限
1、新型高效半導體連續式擴散工藝及裝備的研制
研究目標：研制出新型高效半導體連續式擴散裝備，能在8寸硅片上保持較好的均勻性，保證出片速度800片/小時。
研究內容：高濃度淺結擴散速度與均勻性的技術研究；高溫狀態下連續擴散工藝技術的研究；連續擴散爐的設計和制造技術研究；連續進出料裝置的研究。
2、等離子體化學氣相沉積技術與裝備的研制
研究目標：研制出8寸以上硅片全自動連續式等離子體化學氣相沉積設備，達到良好的膜厚均勻性，出片速度800片/小時。
研究內容：介質薄膜生長與沉積技術研究；薄膜均勻性和致密性工藝技術研究；溫度場、等離子場均勻性技術研究；等離子體化學氣相沉積裝備的設計和制造技術研究。
二、申請方式
1、凡是符合課題制要求并符合本征集指南的，有意承擔研究任務的法人單位均可以從上海科技網站（
）的“網上辦事”中進行網上申報并填寫
《上海市科學技術委員會科研計劃課題可行性方案》[備注：在線填寫可行性方案時，“特征”請選擇“重大”；“是否定向”選擇“否”；“申報市科委計劃類型”請選擇“攻關計劃--先進制造---成套裝備----半導體器件制造工藝關鍵裝備技術的研究”進行申報]。
在申請截止日期前提交申請。書面可行性報告要求同時附上相應的知識產權狀況材料，知識產權狀查新報告一份，并遞交電子文本一份。指南課題以企業為主牽頭，組織協調，并有明確的用戶，鼓勵產學研結合。主牽頭企業必須有充裕的科研經費和配套設施能力。多家單位聯合申請的課題，必須函蓋指南中所有的項目，并附上合作協議或合同。
2、申報單位課題組人員年齡不限。鼓勵通過課題培養優秀的中青年學術骨干。作為課題責任人和主要科研人員，同期參與承擔的863、973、國家科技攻關和上海市重大、重點科研課題數不得超過三項。
3、申報時需提交書面可行性方案（含知識產權查新報告）一式四份，并通過“上海科技”網站在申請截止日期前提交可行性方案和所有表格。所有書面文件請采用A4紙雙面印刷，普通紙質材料作為封面，不采用膠圈、文件夾等帶有突出棱邊的裝訂方式。
三、聯系方式
課題申報受理開始日期為2005年5月24日，截止日期為2005年6月20日
每個工作日上午9：00～下午4：30。受理地址：人民大道200號804室 市科委高新處，聯系電話：23112488 傳真：63267474，聯 系 人：許清業 手機：13661404003
備注：前往人民大道200號聯系工作人員請帶好工作證或者介紹信。
