1.一種處理鳥的上喙和下喙的裝置，該裝置包括：鳥頭定位設備，其包括第一和第二主要側及貫穿該第一和第二主要側形成的喙容納孔，該鳥頭定位設備適于將鳥頭定位成鄰近該第一主要側，其中鳥頭的上喙和下喙貫穿該喙容納孔突出并鄰近該鳥頭定位設備的第二主要側暴露；發射能量的非接觸式能量源；一次能量導向器，其將來自該非接觸式能量源的能量向鳥頭定位設備的第二主要側導向，其中從該非接觸式能量源發射的能量直接入射到鄰近鳥頭定位設備的第二主要側暴露的上喙上；以及二次能量導向器，其將來自該一次能量導向器的能量向鄰近該鳥頭定位設備的第二主要側暴露的下喙重定向。2.如權利要求1所述的裝置，其中該二次能量導向器包括聚焦能量導向器。3.如權利要求1所述的裝置，其中該非接觸式能量源包括電磁能量源，并且其中該二次能量導向器包括反射器，所述反射器適于反射由該電磁能量源發射的電磁能。4.如權利要求1所述的裝置，其中該非接觸式能量源包括燈泡，并且其中該二次能量導向器包括反射器，所述反射器適于反射由該燈泡發射的電磁能。5.一種處理鳥的上喙和下喙的裝置，該裝置包括：鳥頭定位設備，其包括第一和第二主要側及貫穿該第一和第二主要側形成的喙容納孔，該鳥頭定位設備適于將鳥頭定位成鄰近該第一主要側，其中鳥頭的上喙和下喙貫穿該喙容納孔突出并鄰近該鳥頭定位設備的第二主要側暴露；發射能量的非接觸式能量源；一次能量導向器，其將來自該非接觸式能量源的能量向該鳥頭定位設備的第二主要側導向，其中從該非接觸式能量源發射的能量直接入射到鄰近鳥頭定位設備的第二主要側暴露的下喙上；以及二次能量導向器，其將來自該一次能量導向器的能量向鄰近該鳥頭定位設備的第二主要側暴露的上喙重定向。6.如權利要求5所述的裝置，其中該二次能量導向器包括聚焦能量導向器。7.如權利要求5所述的裝置，其中該非接觸式能量源包括電磁能量源，并且其中該一次能量導向器包括反射器，所述反射器適于反射由該電磁能量源發射的電磁能。8.如權利要求5所述的裝置，其中該非接觸式能量源包括燈泡，并且其中二次能量導向器包括反射器，所述反射器適于反射由該燈泡發射的電磁能。9.一種處理鳥的上喙和下喙的裝置，該裝置包括：鳥頭定位設備，其包括第一和第二主要側及貫穿該第一和第二主要側形成的喙容納孔，該鳥頭定位設備適于將鳥頭定位成鄰近該第一主要側，其中鳥頭的上喙和下喙貫穿該喙容納孔突出并鄰近該鳥頭定位設備的第二主要側暴露；發射能量的非接觸式能量源；上喙能量導向器，其將來自該非接觸式能量源的能量向鳥頭定位設備的第二主要側導向，其中由該上喙能量導向器導向后的能量直接入射到鄰近鳥頭定位設備的第二主要側暴露的上喙上；以及下喙能量導向器，其將來自該非接觸式能量源的能量向鳥頭定位設備的第二主要側導向，其中由該下喙能量導向器導向后的能量直接入射到鄰近鳥頭定位設備的第二主要側暴露的下喙上。10.如權利要求9所述的裝置，其中該非接觸式能量源包括電磁能量源。11.如權利要求9所述的裝置，其中該非接觸式能量源包括加熱了的流體源。12.如權利要求9所述的裝置，其中該非接觸式能量源包括激光器。13.如權利要求9所述的裝置，其中該非接觸式能量源包括燈泡。
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