1.一種口腔治療裝置，包括：口腔件，所述口腔件包括具有凹入內表面的彎曲壁以及具有上表面和下表面的咬合平臺，所述咬合平臺從所述彎曲壁的所述凹入內表面延伸到遠端，所述咬合平臺的所述遠端以不間斷的方式從所述咬合平臺的第一端連續地延伸到所述咬合平臺的第二端；電磁輻射源，所述電磁輻射源被配置為從所述彎曲壁發射電磁輻射；并且其中所述咬合平臺包括可塌縮區域，使得所述口腔件可在以下狀態之間變化：(1)所述彎曲壁具有第一曲率的偏置狀態；以及(2)所述彎曲壁具有與所述第一曲率不同的第二曲率的彎曲狀態；其中所述咬合平臺的所述可塌縮區域從所述咬合平臺的所述第一端連續延伸到所述咬合平臺的所述第二端。2.根據權利要求1所述的口腔治療裝置，其中所述第二曲率大于所述第一曲率，使得當所述口腔件處于所述偏置狀態時，所述彎曲壁的相對端之間的距離大于所述彎曲狀態下的距離。3.根據權利要求1所述的口腔治療裝置，其中所述咬合平臺具有從所述彎曲壁的所述凹入內表面到所述咬合平臺的所述遠端測得的寬度，所述咬合平臺的所述寬度從所述咬合平臺的所述第一端到所述咬合平臺的所述第二端恒定。4.根據權利要求1至3中任一項所述的口腔治療裝置，其中所述咬合平臺包括第一不可塌縮區域和第二不可塌縮區域，所述可塌縮區域位于所述第一不可塌縮區域與第二不可塌縮區域之間。5.根據權利要求4所述的口腔治療裝置，其中所述咬合平臺的所述第一不可塌縮區域和第二不可塌縮區域具有從所述咬合平臺的所述下表面到所述咬合平臺的所述上表面測得的第一厚度，并且所述咬合平臺的所述可塌縮區域具有從所述咬合平臺的所述下表面到所述咬合平臺的所述上表面測得的第二厚度，所述第一厚度大于所述第二厚度。6.根據權利要求1至3中任一項所述的口腔治療裝置，其中所述咬合平臺的所述上表面和下表面在所述可塌縮區域中起伏。7.根據權利要求1至3中任一項所述的口腔治療裝置，其中所述咬合平臺的所述可塌縮區域是所述咬合平臺的手風琴狀區域。8.根據權利要求1所述的口腔治療裝置，其中所述咬合平臺的所述可塌縮區域位于所述咬合平臺的所述遠端與所述彎曲壁的所述凹入內表面之間。9.根據權利要求8所述的口腔治療裝置，其中所述咬合平臺還包括不可塌縮區域，并且其中所述不可塌縮區域從所述咬合平臺的所述遠端延伸到所述可塌縮區域，并且所述可塌縮區域從所述不可塌縮區域延伸到所述彎曲壁的所述凹入內表面。10.根據權利要求9所述的口腔治療裝置，其中所述咬合平臺的所述上表面和下表面在所述咬合平臺的所述可塌縮區域中起伏，并且其中咬合板的上表面和下表面在所述咬合板的不可塌縮區域中基本上是平坦的。11.根據權利要求1至3中任一項所述的口腔治療裝置，其中所述咬合平臺包括所述可塌縮區域和至少一個不可塌縮區域，并且其中所述咬合平臺的所述不可塌縮區域具有從所述咬合平臺的所述下表面到所述咬合平臺的所述上表面測得的第一厚度，并且所述咬合平臺的所述可塌縮區域具有從所述咬合平臺的所述下表面到所述咬合平臺的所述上表面測得的第二厚度，所述第一厚度大于所述第二厚度。12.根據權利要求1至3中任一項所述的口腔治療裝置，其中所述咬合平臺的所述遠端沒有凹口。13.根據權利要求1至3中任一項所述的口腔治療裝置，還包括：聯接到所述口腔件并且從所述彎曲壁的凸起外表面延伸的殼體，位于所述殼體內的電源，可操作地聯接到所述電源的所述電磁輻射源。14.根據權利要求1至3中任一項所述的口腔治療裝置，還包括：所述口腔件的所述彎曲壁包括從所述咬合平臺向上延伸的彎曲壁上部，以及從所述咬合平臺向下延伸的彎曲壁下部；所述咬合平臺的所述彎曲壁上部和上表面形成被構造成接納使用者的上齒的第一溝槽；并且所述咬合平臺的所述彎曲壁下部和下表面形成被構造成接納所述使用者的下齒的第二溝槽。15.根據權利要求14所述的口腔治療裝置，還包括從所述咬合平臺向上延伸并與所述彎曲壁的所述彎曲壁上部間隔開第一間隙的第一隆脊和從所述咬合平臺向下延伸并與所述彎曲壁的所述彎曲壁下部間隔開第二間隙的第二隆脊。16.根據權利要求1至3中任一項所述的口腔治療裝置，其中響應于將力施加到所述口腔件的相對端上，所述口腔件從所述偏置狀態變為所述彎曲狀態，在停止所述力時，所述口腔件變回到所述偏置狀態。17.一種口腔治療裝置，包括：口腔件，所述口腔件包括具有凹入內表面的彎曲壁以及具有上表面和下表面的咬合平臺，所述咬合平臺從所述彎曲壁的所述凹入內表面延伸到遠端；電磁輻射源，所述電磁輻射源被配置為從所述彎曲壁發射電磁輻射；其中所述咬合平臺包括至少一個不可塌縮區域和至少一個可塌縮區域，所述咬合平臺的所述上表面和下表面在所述至少一個不可塌縮區域中是基本上平坦的，并且所述咬合平臺的所述上表面和下表面在所述至少一個可塌縮區域中起伏；并且其中所述至少一個不可塌縮區域具有在所述咬合平臺的所述上表面與下表面之間測得的第一厚度，所述可塌縮區域具有在所述咬合平臺的所述上表面與下表面之間測得的第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度。18.根據權利要求17所述的口腔治療裝置，其中所述口腔件可在以下狀態之間變化：(1)所述彎曲壁具有第一曲率的偏置狀態；以及(2)所述彎曲壁具有大于所述第一曲率的第二曲率的彎曲狀態，響應于在相反方向上將力施加到所述口腔件的相對端上，所述口腔件從所述偏置狀態變為所述彎曲狀態，在停止所述力時，所述口腔件從所述彎曲狀態變為所述偏置狀態。19.根據權利要求18所述的口腔治療裝置，其中當所述口腔件處于所述偏置狀態時，所述咬合平臺的所述可塌縮區域具有第一長度和第一寬度，并且其中當所述口腔件處于所述彎曲狀態時，所述咬合平臺的所述可塌縮區域具有第二長度和第二寬度，并且其中所述第一長度大于所述第二長度或者所述第一寬度大于所述第二寬度。20.根據權利要求18至19中任一項所述的口腔治療裝置，其中當所述口腔件處于所述偏置狀態時，所述至少一個不可塌縮區域具有第一長度和第一寬度，并且其中當所述口腔件處于所述彎曲狀態時，所述至少一個不可塌縮區域具有第二長度和第二寬度，所述第一長度和第二長度是相同的并且所述第一寬度和第二寬度是相同的。21.一種口腔治療裝置，包括：口腔件，所述口腔件包括具有凹入內表面的彎曲壁以及具有上表面和下表面的咬合平臺，所述咬合平臺從所述彎曲壁的所述凹入內表面延伸到遠端；電磁輻射源，所述電磁輻射源被配置為從所述彎曲壁發射電磁輻射；并且其中所述咬合平臺包括至少一個不可塌縮區域和至少一個可塌縮區域，所述咬合平臺具有在所述至少一個不可塌縮區域中在所述咬合平臺的所述上表面與下表面之間測得的第一厚度和在所述至少一個可塌縮區域中在所述咬合平臺的所述上表面與下表面之間測得的第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度。22.根據權利要求21所述的口腔治療裝置，其中所述咬合平臺的所述上表面和下表面在所述咬合平臺的所述至少一個不可塌縮區域中是平坦的，并且其中所述咬合平臺的所述上表面和下表面在所述咬合平臺的所述至少一個可塌縮區域中是波狀的。23.根據權利要求21至22中任一項所述的口腔治療裝置，其中所述口腔件可在以下狀態之間變化：(1)所述彎曲壁具有第一曲率的偏置狀態；以及(2)所述彎曲壁具有大于所述第一曲率的第二曲率的彎曲狀態，響應于在相反方向上將力施加到所述口腔件的相對端上，所述口腔件從所述偏置狀態變為所述彎曲狀態，在停止所述力時，所述口腔件從所述彎曲狀態變為所述偏置狀態。24.根據權利要求21至22中任一項所述的口腔治療裝置，其中所述咬合平臺的所述遠端沒有凹口，并且以不間斷的方式從所述咬合平臺的第一端連續延伸到所述咬合平臺的第二端。
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