本發明一種納米鍍膜設備行星回轉貨架裝置，屬于真空鍍膜技術領域。該裝置中，腔室頂部連接抽氣口，腔室中心軸位置安裝有中空管，中空管上端連接到抽氣口，腔室底部安裝有旋轉電機，旋轉電機上安裝有行星回轉貨架；所述行星回轉貨架中，旋轉軸與旋轉電機連接，旋轉軸與中空管同軸，旋轉軸上固定設置旋轉置物架，旋轉置物架上對稱設置有至少兩根行星旋轉軸，行星轉轉軸上設置至少一層置物臺，置物臺上放置待處理的工件。本發明的有益效果：鍍膜過程中行星回轉貨架公轉和自轉持續雙重旋轉，避免出現因各區域化學單體氣體密度不均勻造成固定區域的工件涂層厚度不均勻現象。同時，行星回轉貨架轉動也有利于將進入腔室內的化學單體氣體充分混合均勻。

1.一種納米鍍膜設備行星回轉貨架裝置，其特征在于：包括腔室，所述腔室(3)頂部連
接抽氣口(2)，抽氣口連接真空泵(1)，進氣閥(4)通過進氣管路與腔室(3)連接，加料閥(5)
通過加料管路與腔室(3)連接，射頻電源(12)通過導線與腔室(3)內電極連接，腔室中心軸
位置安裝有中空管(10)，中空管上開有通孔，所述中空管上端連接到抽氣口，所述腔室底部
安裝有旋轉電機(9)，旋轉電機上安裝有行星回轉貨架；
所述行星回轉貨架包括旋轉軸、旋轉置物架(11)，所述旋轉軸與旋轉電機連接，旋轉軸
與中空管同軸，旋轉軸上固定設置旋轉置物架(11)，旋轉置物架上對稱設置有至少兩根行
星旋轉軸(6)，所述行星轉轉軸上設置至少一層置物臺(8)，所述行星旋轉軸垂直于旋轉置
物架且可自轉，置物臺上放置待處理的工件(7)。
2.根據權利要求1所述的一種納米鍍膜設備行星回轉貨架裝置，其特征在于：所述行星
旋轉軸為2-8根，所述置物臺為1-10層。
3.根據權利要求1所述的一種納米鍍膜設備行星回轉貨架裝置，其特征在于：所述腔室
(3)的容積為50～3000L，材質為鋁合金或不銹鋼材質。
4.根據權利要求1所述的一種納米鍍膜設備行星回轉貨架裝置，其特征在于：所述真空
泵(1)的功率為3-50k W，抽速600-1200m³/h。
5.根據權利要求1所述的一種納米鍍膜設備行星回轉貨架裝置，其特征在于：所述旋轉
電機(6)的功率為30-3000W，射頻電源功率為50-1500W。