本發(fā)明公開一種在熨燙設(shè)備(40)內(nèi)去除水中鈣質(zhì)的裝置及其方法，其包含至少一過濾器(11)，所述過濾器(11)含有樹脂(12)。利用包含水及弱酸或是包含水及食鹽的一溶液，可使所述樹脂(12)成為可再生型式。

1.一種在熨燙設(shè)備(40)內(nèi)去除水中鈣質(zhì)的裝置，其包含：至少一過濾器(11)，
含有樹脂(12)；一水槽(15)，連接至所述過濾器(11)；一泵體(29)；以及一
鍋爐(30)，所述過濾器(11)連接至所述熨燙設(shè)備(40)的泵體(29)，其特征在
于：
所述樹脂(12)是一種弱羧基陽離子樹脂，其通過將一溶液選擇性導入所述
水槽(15)內(nèi)并由所述水槽(15)導入至所述過濾器(11)而使所述樹脂(12)再
生，其中所述溶液包含水及一弱酸，或是包含水及食鹽；
其中所述過濾器(11)包含：至少一第一套管(16)，將所述過濾器(11)穩(wěn)固連
接至所述水槽(15)，并具有一校準孔(17)，以便在所述溶液被導入所述過
濾器(11)內(nèi)時用以減緩所述溶液；一后隔室(25)；以及一第二套管(26)，
所述后隔室(25)的底部具有所述第二套管(26)，所述第二套管(26)構(gòu)成所
述后隔室(25)的一窄化部，所述第二套管(26)向下延伸至一第二入口(27)
內(nèi)，所述第二入口(27)位于所述過濾器(11)的底部內(nèi)，所述第二套管(26)
使去除鈣質(zhì)的水流動通過一管體(28)，所述管體(28)插設(shè)在所述第二入口
(27)內(nèi)，所述管體(28)使所述過濾器(11)連接至所述熨燙設(shè)備(40)的泵體
(29)，所述泵體(29)吸取所述水槽(15)內(nèi)的水，使得水通過所述過濾器(11)，
并將水輸送至所述鍋爐(30)處，以將水轉(zhuǎn)變成熨燙所需的蒸氣。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于：所述過濾器(11)永久性或可拆卸
的固定于所述熨燙設(shè)備(40)內(nèi)部。
3.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于：所述樹脂由直徑介于0.20毫米
至0.30毫米之間的球體所組成。
4.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于：所述裝置另包含一支撐裝置(32)，
以支撐所述過濾器(11)，所述支撐裝置(32)具有一凹穴(34)，所述凹穴(34)
具有的尺寸對應(yīng)于所述過濾器(11)的尺寸，以容置所述過濾器(11)。
5.如權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于：所述支撐裝置(32)另支撐由所述
熨燙設(shè)備(40)拆卸出的所述水槽(15)，以在所述設(shè)備(40)外進行所述樹脂
的再生。
6.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于：所述裝置包含或連結(jié)于另一裝置
以辨識所述過濾器(11)的樹脂(12)的狀態(tài)。
7.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于：所述裝置包含或連結(jié)于另一裝置
以自動化再生所述過濾器(11)的樹脂(12)。
8.如上述任一權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于：所述過濾器(11)包含至少
二容納格網(wǎng)(20、21)，彼此平行的設(shè)置，以形成一隔室(22)，所述樹脂(12)
位于所述隔室(22)內(nèi)。
9.一種在熨燙設(shè)備(40)內(nèi)去除水中鈣質(zhì)的方法，其使用：至少一過濾器(11)，
含有樹脂(12)；一水槽(15)，連接至所述過濾器(11)；一泵體(29)；以及一
鍋爐(30)，所述過濾器(11)連接至所述熨燙設(shè)備(40)的泵體(29)，所述泵體
(29)吸取所述水槽(15)內(nèi)的水，使得水通過所述過濾器(11)，并將水輸送
至所述鍋爐(30)處，以將水轉(zhuǎn)變成熨燙所需的蒸氣，其特征在于：
所述方法包含至少一步驟，其中通過將一溶液導入至所述水槽(15)內(nèi)并在
所述溶液被導入所述過濾器(11)內(nèi)時通過一校準孔(17)減緩所述溶液，且
所述溶液由所述水槽(15)導入至所述過濾器(11)，而使所述過濾器(11)內(nèi)的
樹脂(12)再生，其中所述校準孔(17)設(shè)于一第一套管(16)內(nèi)，所述第一套
管(16)將所述過濾器(11)穩(wěn)固連接至所述水槽(15)，所述溶液在所述過濾
器(11)內(nèi)流動的一時間介于40分鐘至80分鐘之間，及其中所述溶液包含
水及一弱酸，或是包含水及食鹽。
10.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于：所述方法提供：使用一檸檬酸，
其在所述溶液內(nèi)的濃度介于10％至20％之間。
11.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于：所述方法提供：使用食鹽，其在
所述溶液內(nèi)的濃度介于10％至20％之間。