一種紅外線加熱器和紅外線處理裝置。紅外線加熱器(10)具備：被加熱時放射紅外線并能吸收規(guī)定反射波長區(qū)域的紅外線的發(fā)熱體(40)，和與發(fā)熱體(40)隔著向外部空間開放的第1空間(47)而配設的過濾器部(50)。過濾器部(50)具備：透過來自發(fā)熱體(40)的紅外線中的至少一部分的1層以上的透過層(第1透過層51)，和向發(fā)熱體(40)反射反射波長區(qū)域的紅外線的反射部(第1透過層51)。

1.一種紅外線加熱器，包括：發(fā)熱體，所述發(fā)熱體被加熱時放射紅外線，并且能夠吸收規(guī)定的反射波長區(qū)域的紅外線，過濾器部，所述過濾器部包括反射部和1層以上的透過層，所述透過層能夠使來自所述發(fā)熱體的紅外線中的至少一部分透過，所述反射部朝向所述發(fā)熱體反射所述反射波長區(qū)域的紅外線，所述過濾器部配設成其與所述發(fā)熱體隔著向外部空間開放的第1空間。2.根據權利要求1所述的紅外線加熱器，其中，所述透過層包含第1透過層，所述第1透過層兼作所述反射部的至少一部分，所述第1透過層具有對規(guī)定的反射波長區(qū)域的紅外線進行反射的反射特性，并且能夠使來自所述發(fā)熱體的紅外線中的至少一部分透過。3.根據權利要求2所述的紅外線加熱器，其中，將所述發(fā)熱體和所述第1透過層的距離設定為距離D，該距離D的單位為cm，將所述發(fā)熱體在相對于所述第1透過層垂直的方向投影到該第1透過層上而形成的區(qū)域設定為投影區(qū)域，將包圍該投影區(qū)域整體的矩形或圓形的最小區(qū)域的面積設定為發(fā)熱體面積S，該發(fā)熱體面積S的單位為cm²，其中，0cm²＜S≤400cm²，代表尺寸時，0.08≤D/L≤0.23，該代表尺寸L的單位為cm。4.根據權利要求2或3所述的紅外線加熱器，其中，所述過濾器部具有第2透過層，所述第2透過層配設成其與所述第1透過層隔著第2空間，來自所述發(fā)熱體的紅外線中的透過了該第1透過層的紅外線中的至少一部分透過所述第2透過層。5.根據權利要求1所述的紅外線加熱器，其中，作為所述過濾器部的所述透過層，具有第1透過層和第2透過層，所述第2透過層配設在從該第1透過層觀察時與所述發(fā)熱體相反的一側，并且配設成其與該第1透過層隔著第2空間，所述反射波長區(qū)域的紅外線透過所述第1透過層，所述第2透過層是所述反射部的至少一部分，所述第2透過層反射所述反射波長區(qū)域的紅外線，并且來自所述發(fā)熱體的紅外線中的透過了所述第1透過層的紅外線中的至少一部分透過所述第2透過層。6.根據權利要求5所述的紅外線加熱器，其中，所述過濾器部具有將所述第2空間與該過濾器部的外部區(qū)分劃開的區(qū)劃部件，所述反射部具有透過層側反射部件，所述透過層側反射部件是所述區(qū)劃部件的至少一部分，且對所述反射波長區(qū)域的紅外線進行反射。7.根據權利要求5或6中的任一項所述的紅外線加熱器，其中，所述第2空間是能夠流通制冷劑的制冷劑流路。8.根據權利要求1所述的紅外線加熱器，其中，所述透過層包含第1透過層，所述第1透過層兼作所述反射部的一部分，所述第1透過層包括選擇反射區(qū)域和透過區(qū)域，所述選擇反射區(qū)域具有對所述反射波長區(qū)域的紅外線進行反射的反射特性并且能夠使來自所述發(fā)熱體的紅外線中的至少一部分透過，所述透過區(qū)域能夠使所述反射波長區(qū)域的紅外線透過，所述選擇反射區(qū)域被配置在：比所述透過區(qū)域靠近所述發(fā)熱體的中央的位置，所述透過區(qū)域被配置在：比所述選擇反射區(qū)域遠離所述發(fā)熱體的中央的位置，所述反射部具有透過層側反射部件，所述透過層側反射部件被配設在從所述第1透過層觀察時與所述發(fā)熱體相反的一側，且具有反射面，所述反射面相對于所述透過區(qū)域中所述發(fā)熱體側的表面傾斜，并且朝向該發(fā)熱體反射透過了所述透過區(qū)域的所述反射波長區(qū)域的紅外線。9.根據權利要求8所述的紅外線加熱器，其中，所述第1透過層的所述透過區(qū)域位于：在從所述發(fā)熱體側觀察時包圍所述選擇反射區(qū)域的周圍的位置。10.根據權利要求8或9所述的紅外線加熱器，其中，所述透過層側反射部件配設成:將所述反射面垂直投影到所述第1透過層中與所述發(fā)熱體相對的面時，該反射面與所述選擇反射區(qū)域不重疊。11.根據權利要求8或9所述的紅外線加熱器，其中，所述透過層側反射部件的所述反射面為凹面。12.根據權利要求1～3中的任一項所述的紅外線加熱器，其中，所述1層以上的透過層中最接近所述發(fā)熱體的最接近透過層的該發(fā)熱體側的表面露出于所述第1空間，將所述發(fā)熱體和所述最接近透過層的距離設定為距離D，該距離D的單位為cm，將所述發(fā)熱體在相對于所述最接近透過層垂直的方向投影到該最接近透過層上而形成的區(qū)域設定為投影區(qū)域，將包圍該投影區(qū)域整體的矩形或圓形的最小區(qū)域的面積設定為發(fā)熱體面積S，該發(fā)熱體面積S的單位為cm²，其中，0cm²＜S≤400cm²，代表尺寸時，0.06≤D/L≤0.23，該代表尺寸L的單位為cm。13.根據權利要求1～3中的任一項所述的紅外線加熱器，其中,還包括發(fā)熱體側反射部件，所述發(fā)熱體側反射部件配設在從所述發(fā)熱體觀察時與所述透過層相反的一側，對所述反射波長區(qū)域的紅外線進行反射。14.根據權利要求1～3中的任一項所述的紅外線加熱器，其中，所述發(fā)熱體是面狀發(fā)熱體，所述面狀發(fā)熱體具有：能夠朝向所述透過層放射紅外線、并且能夠吸收所述反射波長區(qū)域的紅外線的平面。15.一種紅外線處理裝置，是向對象物放射紅外線而進行紅外線處理的紅外線處理裝置，包括：權利要求1～14中的任一項所述的紅外線加熱器，爐體，所述爐體形成有處理空間，所述處理空間是：不與所述第1空間直接連通，并且利用由所述發(fā)熱體放射并透過了所述過濾器部之后的紅外線來進行所述紅外線處理的空間。16.根據權利要求15所述的紅外線處理裝置，其中，所述發(fā)熱體和所述第1空間位于所述爐體之外。