本發明涉及痕量檢測技術領域，具體公開了一種熒光猝滅體系用于潛在指紋顯現的方法，該方法為一種利用熒光猝滅體系的“turn-on”效應即重新發出熒光而顯現出潛在指紋的方法。先制備熒光猝滅體系，所述熒光猝滅體系的猝滅狀態可被指紋成分破壞；然后將其噴、涂到各種物品上，有指紋的部分，其中的氯離子、氨基酸或者葡萄糖等指紋成分破壞所述熒光猝滅體系的猝滅狀態，使熒光再現從而顯現指紋；在特殊光照下透過濾光片或者在自然光照下直接拍照。本發明的優點在于方法簡單、快速，而且在指紋細節不夠清晰的時候，可以再使用常用的DFO、IND、茚三酮、硝酸銀等繼續顯現指紋，即該方法還可用于指紋“標記”或者“示蹤”。

1.一種熒光猝滅體系用于潛在指紋顯現的方法，其步驟如下：先制備熒光猝滅體系，所述熒光猝滅體系的猝滅狀態可被指紋成分破壞；然后將其噴、涂到各種物品上，有指紋的部分，指紋成分破壞所述熒光猝滅體系的猝滅狀態，使熒光再現從而顯現指紋；所述的熒光猝滅體系包括熒光物質和能夠將熒光物質的熒光猝滅的物質。2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：所述熒光物質為能夠受激發光的量子點、染料、席夫堿類化合物、芳香族氨基酸、聚乙烯吡咯烷酮、8-羥基喹啉鋁、二苯乙烯熒光藍-S、水楊基熒光酮、諾氟沙星、苯基熒光酮中的一種。3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于：所述量子點為氧化鋅、硫化鋅、二氧化鈦、硒化鎘、硫化鎘、碲化鎘中的一種，該氧化鋅、硫化鋅、二氧化鈦、硒化鎘、硫化鎘、碲化鎘中的一種可修飾或不修飾。4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于：當氧化鋅、硫化鋅、二氧化鈦、硒化鎘、硫化鎘、碲化鎘中的一種被修飾時，所述量子點表面使用巰基乙酸、DNA、RNA、氨基酸、蛋白質或酶進行修飾。5.根據權利要求2所述的方法，其特征在于：當所述熒光物質為熒光素時，所述熒光素為CAS：2321-07-5的熒光素、5-羧基熒光素、6-羧基熒光素中的一種或兩種以上的任意比例混合物。6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：所述能夠將熒光物質的熒光猝滅的物質為納米金、納米銀、銀離子、量子點、銅離子、鎳離子、鋅離子、鐵離子、鉬（Ⅵ）離子、DNA、RNA、氨基酸、蛋白質、酶、抗壞血酸、錳離子中的一種。7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于：當所述能夠將熒光物質的熒光猝滅的物質為納米金時，所述納米金表面使用巰基乙酸、DNA、RNA、氨基酸、蛋白質或酶進行修飾。8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：所述熒光猝滅體系選自納米金-熒光素熒光猝滅體系、水溶性CdTe量子點-銀離子熒光猝滅體系、碳點-銅離子熒光猝滅體系、硫化鋅量子點-鎳離子熒光猝滅體系、納米銀-染料熒光猝滅體系、納米銀-聚乙烯吡咯烷酮熒光猝滅體系、納米銀-8-羥基喹啉鋁熒光猝滅體系、納米銀-諾氟沙星熒光猝滅體系、銅離子-席夫堿類化合物熒光猝滅體系、芳香族氨基酸-抗壞血酸熒光猝滅體系、鈣黃綠素藍-錳離子熒光猝滅體系、鎳離子-吖啶橙-曙紅Y熒光猝滅體系、鋅離子-二苯乙烯熒光藍-S熒光猝滅體系、鐵離子-二苯乙烯熒光藍-S熒光猝滅體系、鉬（Ⅵ）離子-水楊基熒光酮熒光猝滅體系或錳（Ⅱ）離子-苯基熒光酮熒光猝滅體系。9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于：所述熒光猝滅體系選自納米金-熒光素熒光猝滅體系、納米銀-熒光素熒光猝滅體系、水溶性CdTe量子點-銀離子熒光猝滅體系、碳點-銅離子熒光猝滅體系。