本發明公開了一種脈沖電化學沉積制備羥基磷灰石/納米銀抗菌復合涂層的方法，用鈣鹽、磷酸鹽、硝酸銀以及適量的配位劑配制一定濃度、pH值的電解液，在具有三電極系統的電解槽中進行電沉積；以飽和甘汞電極為參比電極，鉑金片為對電極，待涂層的生物醫用金屬為工作電極；脈沖電位高電位：0V，脈沖低電位：-2.0V，脈寬：100s，沉積時間：2h；涂層中的成分均以離子形式沉積到基材上，沉積過程中產生的納米銀在復合涂層中分散均勻，最終制得均勻的羥基磷灰石/納米銀抗菌復合涂層。

1.一種脈沖電化學沉積制備羥基磷灰石/納米銀抗菌復合涂層的方
法，以鈣鹽、磷酸鹽和硝酸銀為原料經脈沖電化學沉積在生物醫用
金屬表面制備得到均勻的HA/nano-Ag抗菌復合涂層，包括如下步
驟：
(1)作為基體的生物醫用金屬經表面處理；
(2)用分析純鈣鹽、磷酸鹽、硝酸銀以及半胱氨酸，分別用蒸餾
水溶解；取四水硝酸鈣、磷酸二氫銨分別用水溶解后混合得到均勻的
鈣磷溶液；然后向硝酸銀水溶液中緩慢的加入半胱氨酸，所得溶液加
入到所述鈣磷溶液中，用氨水調節pH＝4.0，攪拌混合，最后得到均
勻電解液；在1000ml所述均勻電解液中含有：0.5g硝酸銀，0.2g
半胱氨酸，0.394g四水硝酸鈣，0.115g磷酸二氫銨；
(3)在所述電解液中，以飽和甘汞電極為參比電極，鉑片為對電
極，待涂層的生物醫用金屬為工作電極，在三電極系統的電解槽中進
行電化學沉積；
電化學沉積的工藝參數為：脈沖高電位：0V，脈沖低電位：-2.0V，
脈寬：100s，沉積時間：2h。
2.根據權利要求1所述一種脈沖電化學沉積制備羥基磷灰石/納米銀
抗菌復合涂層的方法，其特征在于，待涂層的生物醫用金屬至少可為
以下一種物質：純鈦，鈦合金，不銹鋼。