1.一種基于多組測試探針的二極管光電測試方法,適用于二極管的晶圓測試,單片晶
圓包括多個芯片,其特征在于,所述方法包括:
根據每臺電性測量設備連接的測試探針的組數對多個所述芯片進行分組,每組所述芯
片的數量與每臺所述電性測量設備連接的所述測試探針的組數相同;
采用所述測試探針對每個所述芯片進行電性測試,以獲得各個所述芯片的電性參數;
從每臺所述電性測量設備連接的多組測試探針中選擇一組,采用光性測量設備對一組
所述芯片中的任一待測芯片進行光性測試,以獲得所述待測芯片的光性參數,該組所述芯
片與多組測試探針對應;
將已測的所述待測芯片的光性參數作為與已測的所述待測芯片在同一組中的未測芯
片的光性參數;
其中,所述采用所述測試探針對每個所述芯片進行電性測試,以獲得各個所述芯片的
電性參數,包括:
采用分別與多臺所述電性測量設備連接的多組測試探針同時對每個芯片進行電性測
試,以獲得各個所述芯片的電性參數。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述待測芯片位于所在的一組所述芯片的
中心。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,每臺電性測量設備最多連接有七組測試探
針。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,每個所述芯片的所述電性測試包括:
將一組測試探針中的兩根測試探針分別接入一個所述芯片的P電極和N電極;
向兩根所述測試探針通入額定電流或額定電壓;
采用所述電性測量設備測量一個所述芯片的電性參數。
5.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,每個所述待測芯片的所述光性測試包括:
將一組測試探針中的兩根測試探針分別接入一個所述待測芯片的P電極和N電極;
向兩根所述測試探針通入額定電流或額定電壓;
采用所述光性測量設備測量一個所述待測芯片的光性參數。
6.根據權利要求1-5中任一項所述的方法,其特征在于,所述晶圓為劃裂前的晶圓或者
為劃裂后的晶圓。
7.根據權利要求1-5中任一項所述的方法,其特征在于,所述二極管為GaN基發光二極
管。
8.根據權利要求1-5中任一項所述的方法,其特征在于,所述電性參數包括:開啟電壓
Vfin、工作電壓Vf、反向漏電流Ir和反向擊穿電壓Vr。
9.根據權利要求1-5中任一項所述的方法,其特征在于,所述光性參數包括:亮度Iv、工
作電壓Vf、主值波長Wd、峰值波長Wp、半波長HW、CIE色度x坐標CIE-x和CIE色度y坐標CIE-y。
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