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光學(xué)試驗(yàn)裝置

  • 專利類型:發(fā)明專利
  • 有效期:不限
  • 發(fā)布日期:2022-02-01
  • 技術(shù)成熟度:已有樣品
交易價(jià)格: ¥面議
  • 法律狀態(tài)核實(shí)
  • 簽署交易協(xié)議
  • 代辦官方過戶
  • 交易成功

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  • 技術(shù)(專利)類型 發(fā)明專利
  • 申請?zhí)?專利號 CN201210558895.1 
  • 技術(shù)(專利)名稱 光學(xué)試驗(yàn)裝置 
  • 項(xiàng)目單位 夏普株式會(huì)社
  • 發(fā)明人 內(nèi)田練,石川真治,佐藤哲也 
  • 行業(yè)類別 其他領(lǐng)域
  • 技術(shù)成熟度 已有樣品
  • 交易價(jià)格 ¥面議
  • 聯(lián)系人 王筱涵
  • 發(fā)布時(shí)間 2022-02-01  
  • 01

    項(xiàng)目簡介

    本發(fā)明提供一種光學(xué)試驗(yàn)裝置,無論各芯片所對應(yīng)的探針位置,能夠使光量的計(jì)測條件均等,而使光量的測量值均等。其中,作為在發(fā)光器件例如LED芯片等的芯片(22)的光學(xué)特性計(jì)測中、使多個(gè)同時(shí)進(jìn)行探針接觸來計(jì)測光量時(shí)的光學(xué)性修正單元,具備如下:用于供給電源的接觸探針(21);在接觸探針群的兩側(cè),以在其以外遮擋擴(kuò)散光為目的的用于取得同等計(jì)測條件的虛擬探針(21a)。
    展開
  • 02

    說明書

    1.一種光學(xué)試驗(yàn)裝置,其特征在于,具有:
    在與計(jì)測對象的多個(gè)發(fā)光器件進(jìn)行電接觸而計(jì)測光學(xué)特性時(shí),用于向
    該多個(gè)發(fā)光器件供給電源的多個(gè)接觸單元;
    在該多個(gè)接觸單元的排列的兩側(cè)分別設(shè)置、且與該接觸單元同樣的用
    于遮擋來自該發(fā)光器件的擴(kuò)散光而使光量計(jì)測條件均等的虛擬接觸單元。
    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)試驗(yàn)裝置,其特征在于,
    由固定有所述多個(gè)接觸單元及其兩側(cè)的所述虛擬接觸單元的卡片單
    元構(gòu)成。
    3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)試驗(yàn)裝置,其特征在于,
    所述虛擬接觸單元,通過遮蔽來自計(jì)測對象的計(jì)測區(qū)域的所述發(fā)光器
    件的排列的兩側(cè)末端位置的該發(fā)光器件的擴(kuò)散光,進(jìn)行在所述多個(gè)發(fā)光器
    件間對所述光學(xué)特性的計(jì)測值進(jìn)行校正的物理性光學(xué)校正。
    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)試驗(yàn)裝置,其特征在于,
    所述接觸單元和所述虛擬接觸單元,按照來自其下方的發(fā)光器件的擴(kuò)
    散光的遮光寬度或遮光面積同等的方式構(gòu)成。
    5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)試驗(yàn)裝置,其特征在于,
    所述接觸單元和所述虛擬接觸單元的截面形狀被構(gòu)成為同等尺寸的
    同等形狀。
    6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)試驗(yàn)裝置,其特征在于,
    所述接觸單元和所述虛擬接觸單元被構(gòu)成為截面同等直徑。
    7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)試驗(yàn)裝置,其特征在于,
    以與所述多個(gè)接觸單元的配置間隔同等的間隔,在該多個(gè)接觸單元的
    兩側(cè)配置所述虛擬接觸單元。
    8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)試驗(yàn)裝置,其特征在于,
    所述接觸單元和所述虛擬接觸單元,將距所述多個(gè)發(fā)光器件的發(fā)光高
    度位置的高度配置成同等的高度。
    9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)試驗(yàn)裝置,其特征在于,
    所述接觸單元的材質(zhì)與所述虛擬接觸單元的材質(zhì)由同等的材質(zhì)構(gòu)成。
    10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)試驗(yàn)裝置,其特征在于,
    所述接觸單元的表面反射特性與所述虛擬接觸單元的表面反射特性
    被構(gòu)成為同等的表面反射特性。
    11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)試驗(yàn)裝置,其特征在于,
    在所述多個(gè)接觸單元的排列的兩側(cè)所分別設(shè)置的所述虛擬接觸單元
    的需要數(shù)量,根據(jù)來自所述發(fā)光器件的擴(kuò)散光的擴(kuò)散特性決定。
    12.根據(jù)權(quán)利要求1或11所述的光學(xué)試驗(yàn)裝置,其特征在于,
    在所述多個(gè)接觸單元的排列的兩側(cè)所分別設(shè)置的所述虛擬接觸單元
    的需要數(shù)量,根據(jù)從所述發(fā)光器件的發(fā)光高度位置至所述接觸單元的高度
    位置的距離決定。
    13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)試驗(yàn)裝置,其特征在于,
    所述虛擬接觸單元的前端形狀,與所述接觸單元的前端形狀相比,被
    縮短至該虛擬接觸單元的前端不會(huì)與所述發(fā)光器件的電極片接觸。
    14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)試驗(yàn)裝置,其特征在于,
    所述接觸單元是接觸探針,所述虛擬接觸單元是虛擬探針。
    15.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)試驗(yàn)裝置,其特征在于,
    所述多個(gè)接觸單元是多個(gè)接觸探針,所述虛擬接觸單元是虛擬探針,
    所述卡片單元由固定有該多個(gè)接觸探針及其兩側(cè)的該虛擬探針的探針卡
    構(gòu)成。
    16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)試驗(yàn)裝置,其特征在于,
    使在所述多個(gè)接觸單元之中的、其排列的中央部的接觸單元的表面反
    射特性被調(diào)整得比其兩側(cè)的該接觸單元的表面反射特性高。
    17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)試驗(yàn)裝置,其特征在于,
    使在所述多個(gè)接觸單元之中的、其排列的中央部的接觸單元的遮光程
    度被調(diào)整得比其兩側(cè)的該接觸單元的遮光程度小。
    18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)試驗(yàn)裝置,其特征在于,
    所述多個(gè)接觸單元及其兩側(cè)的所述虛擬接觸單元,分別朝向所述發(fā)光
    器件的兩電極片而從該發(fā)光器件的兩側(cè)、相對于該多個(gè)發(fā)光器件的排列方
    向在俯視下正交或具有規(guī)定角度地排列。
    展開

專利技術(shù)附圖

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    專利證書

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