1.一種用于減輕口腔中的組織的感染的組合物，其特征在于包含二氧化氯
組合物，該二氧化氯組合物包括i)二氧化氯源，所述二氧化氯源包括二氧化氯，
和ii）氧-氯陰離子，其中每克組合物存在不超過0.25毫克的氧-氯陰離子，其中
二氧化氯以至少5ppm存在于二氧化氯組合物中，所述二氧化氯組合物是基本
上無細胞毒性的。
2.如權利要求1所述的組合物，其中所述二氧化氯組合物包括20ppm到
1000ppm的二氧化氯。
3.如權利要求1所述的組合物，其中所述二氧化氯組合物包括20ppm到
400ppm的二氧化氯。
4.如權利要求1所述的組合物，其中所述二氧化氯源包括產生二氧化氯的
組分，其為二氧化氯的顆粒前體。
5.如權利要求1所述的組合物，其中所述口腔組織感染選自由口臭、牙齦
炎、牙周炎、齲病和鵝口瘡組成的組。
6.如權利要求1所述的組合物，其中所述二氧化氯組合物還包括抗菌劑。
7.如權利要求6所述的組合物，其中所述抗菌劑選自由下述物質組成的組：
多西環素、甲硝唑、氯己定、米諾環素、四環素、制霉菌素、咪康唑和兩性霉
素。
8.如權利要求1所述的組合物，其中所述二氧化氯組合物包括小于0.2毫
克的氧-氯陰離子每克組合物。
9.如權利要求8所述的組合物，其中所述二氧化氯組合物具有4.5到11的
pH。
10.如權利要求8所述的組合物，其中所述二氧化氯組合物具有6到8的
pH。
11.如權利要求1所述的組合物，所述二氧化氯組合物還包括增稠劑組分。
12.一種用于減輕口腔中的組織的感染的裝置，其特征在于包括：
任選的背襯層；
包括i)二氧化氯源和ii)氧-氯陰離子的層,所述二氧化氯源包括二氧化氯或
產生二氧化氯的組分；以及
屏障層，其被置于所述二氧化氯源的層和所述組織之間，其中所述屏障層
基本上禁止所述氧-氯陰離子穿過其中而允許包括至少5ppm的二氧化氯和0毫
克氧-氯陰離子每克組合物至不超過0.25mg氧-氯陰離子每克組合物的二氧化氯
組合物穿過其中，其中所述二氧化氯組合物是基本上無細胞毒性的。
13.如權利要求12所述的裝置，其中所述二氧化氯組合物包括20ppm到
1000ppm的二氧化氯。
14.如權利要求12所述的裝置，其中所述二氧化氯組合物包括20ppm到
400ppm的二氧化氯。
15.如權利要求12所述的裝置，其中所述二氧化氯源包括作為產生二氧化
氯組分的二氧化氯的顆粒前體。
16.如權利要求12所述的裝置，其中所述口腔組織感染選自由口臭、牙齦
炎、牙周炎、齲病和鵝口瘡組成的組。
17.如權利要求12所述的裝置，其中所述二氧化氯組合物還包括抗菌劑。
18.如權利要求17所述的裝置，其中所述抗菌劑選自由下述物質組成的組：
多西環素、甲硝唑、氯己定、米諾環素、四環素、制霉菌素、咪康唑和兩性霉
素。
19.如權利要求12所述的裝置，其中所述二氧化氯組合物包括小于0.2毫
克的氧-氯陰離子每克組合物。
20.如權利要求19所述的裝置，其中所述二氧化氯組合物具有4.5到11的
pH。
21.如權利要求19所述的裝置，其中所述二氧化氯組合物具有6到8的pH。
22.如權利要求12所述的裝置，其中所述屏障層是選自由聚氨酯、聚丙烯、
聚四氟乙烯、聚偏二氟乙烯、聚偏二氯乙烯、聚二甲硅氧烷和聚四氟乙烯的組
合、聚苯乙烯、醋酸纖維素、聚硅氧烷及其組合組成的組的膜。
23.一種用于減輕口腔中的組織的感染的裝置，其特征在于包括：
背襯層和附著于所述背襯層的基體，其中所述基體包括：
二氧化氯源和氧-氯陰離子,所述二氧化氯源包括二氧化氯或產生二氧化氯
的組分；以及
屏障物質，其基本上禁止所述氧-氯陰離子穿過其中而允許包括至少5ppm
的二氧化氯和0毫克氧-氯陰離子每克組合物至不超過0.25mg氧-氯陰離子每克
組合物的二氧化氯組合物穿過其中，其中所述二氧化氯組合物是基本上無細胞
毒性的。
24.如權利要求23所述的裝置，其中所述二氧化氯組合物包括20ppm到
1000ppm的二氧化氯。
25.如權利要求23所述的裝置，其中所述二氧化氯組合物包括20ppm到
400ppm的二氧化氯。
26.如權利要求23所述的裝置，其中所述二氧化氯源包括作為產生二氧化
氯組分的二氧化氯的顆粒前體。
27.如權利要求23所述的裝置，其中所述口腔組織感染選自由口臭、牙齦
炎、牙周炎、齲病和鵝口瘡組成的組。
28.如權利要求23所述的裝置，其中所述二氧化氯組合物還包括抗菌劑。
29.如權利要求28所述的裝置，其中所述抗菌劑選自由下述物質組成的組：
多西環素、甲硝唑、氯己定、米諾環素、四環素、制霉菌素、咪康唑和兩性霉
素。
30.如權利要求23所述的裝置，其中所述二氧化氯組合物包括小于0.2毫
克的氧-氯陰離子每克組合物。
31.如權利要求30所述的裝置，其中所述二氧化氯組合物具有4.5到11的
pH。
32.如權利要求30所述的裝置，其中所述二氧化氯組合物具有6到8的pH。
33.如權利要求23所述的裝置，其中所述屏障物質選自由聚氨酯、聚丙烯、
聚四氟乙烯、聚偏二氟乙烯、聚偏二氯乙烯、聚二甲硅氧烷和聚四氟乙烯的組
合、聚苯乙烯、醋酸纖維素、聚硅氧烷、聚環氧乙烷、聚丙烯酸酯、礦物油、
固體石蠟、聚異丁烯、聚丁烯及其組合組成的組。
34.一種用于減輕口腔中的組織的感染的組合物，其特征在于包含a)二氧化
氯源，所述二氧化氯源包括二氧化氯或產生二氧化氯的組分，b）氧-氯陰離子，
和c）屏障物質，所述屏障物質基本上禁止所述氧-氯陰離子穿過其中而允許基
本上無氧-氯陰離子的二氧化氯組合物穿過其中，由此能夠使包括至少5ppm的
二氧化氯和0毫克氧-氯陰離子每克組合物至不超過0.25mg氧-氯陰離子每克組
合物的二氧化氯組合物遞送至所述組織，其中所述二氧化氯組合物是基本上無
細胞毒性的。
35.如權利要求34所述的組合物，其中所述二氧化氯組合物包括20ppm
到1000ppm的二氧化氯。
36.如權利要求34所述的組合物，其中所述二氧化氯組合物包括20ppm
到400ppm的二氧化氯。
37.如權利要求34所述的組合物，其中所述二氧化氯源包括作為產生二氧
化氯組分的二氧化氯的顆粒前體。
38.如權利要求34所述的組合物，其中所述口腔組織感染選自由口臭、牙
齦炎、牙周炎、齲病和鵝口瘡組成的組。
39.如權利要求34所述的組合物，其中所述二氧化氯組合物還包括抗菌劑。
40.如權利要求39所述的組合物，其中所述抗菌劑選自由下述物質組成的
組：多西環素、甲硝唑、氯己定、米諾環素、四環素、制霉菌素、咪康唑和兩
性霉素。
41.如權利要求34所述的組合物，其中所述二氧化氯組合物包括小于0.2
毫克的氧-氯陰離子每克組合物。
42.如權利要求41所述的組合物，其中所述二氧化氯組合物具有4.5到11
的pH。
43.如權利要求41所述的組合物，其中所述二氧化氯組合物具有6到8的
pH。
44.如權利要求34所述的組合物，其中所述屏障物質選自由聚氨酯、聚丙
烯、聚四氟乙烯、聚偏二氟乙烯、聚偏二氯乙烯、聚二甲硅氧烷和聚四氟乙烯
的組合、聚苯乙烯、醋酸纖維素、聚硅氧烷、聚環氧乙烷、聚丙烯酸酯、礦物
油、固體石蠟、聚異丁烯、聚丁烯及其組合組成的組。
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