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苯硼酸功能化的氧化石墨烯復合納米材料及其制備和應用

  • 專利類型:發明專利
  • 有效期:不限
  • 發布日期:2021-07-28
  • 技術成熟度:已有樣品
交易價格: ¥面議
  • 法律狀態核實
  • 簽署交易協議
  • 代辦官方過戶
  • 交易成功

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  • 技術(專利)類型 發明專利
  • 申請號/專利號 CN201510552575.9 
  • 技術(專利)名稱 苯硼酸功能化的氧化石墨烯復合納米材料及其制備和應用 
  • 項目單位 中國科學院大連化學物理研究所
  • 發明人 張麗華,吳瓊,江波,翁葉靖,張玉奎 
  • 行業類別 醫藥制造-化學藥品制劑
  • 技術成熟度 已有樣品
  • 交易價格 ¥面議
  • 聯系人 錢濤滔
  • 發布時間 2021-07-28  
  • 01

    項目簡介

    本發明涉及一種新型苯硼酸功能化的氧化石墨烯復合納米材料及其制備和應用。所述的材料是將聚多巴胺包裹的磁性納米顆粒固載到聚乙烯亞胺修飾的氧化石墨烯上,進一步通過聚乙烯亞胺的氨基引入帶羧基的苯硼酸單體,最后用于糖蛋白富集。具體過程為:首先通過溶劑熱法制備四氧化三鐵磁性納米顆粒,堿性條件下多巴胺能夠在其表面自聚合。利用聚多巴胺與氧化石墨烯之間氫鍵和π?π相互作用制備磁性氧化石墨烯復合納米材料。然后,帶正電的聚乙烯亞胺通過靜電自組裝固載到帶負電的磁性氧化石墨烯表面上。最后,通過酰胺化反應引入苯硼酸單體得到苯硼酸功能化的磁性氧化石墨烯復合納米材料,并且成功用于生物分析中糖蛋白的富集。
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  • 02

    說明書

    1.苯硼酸功能化的氧化石墨烯復合納米材料,其特征在于:
    是將四氧化三鐵磁性納米顆粒或外部包裹有高分子聚合物的四氧化三鐵磁性納米顆
    粒固載到氧化石墨烯上,隨后對氧化石墨烯進行后修飾,最后引入苯硼酸功能單體;
    其中,氧化石墨烯后修飾所用高分子聚合物為聚乙烯亞胺、聚丙烯亞胺或聚酰胺中的
    一種或二種以上;
    所述苯硼酸功能單體為2-羧基苯硼酸、5-羧基-2-羥甲基苯硼酸、4-甲酰基苯硼酸、氨
    基苯硼酸或5-氨基-2-羥甲基苯硼酸中的一種或二種以上。
    2.如權利要求1所述的納米材料,其特征在于:
    所述的四氧化三鐵磁性納米顆粒粒徑在100-300 nm;或者在四氧化三鐵磁性納米顆粒
    外部包裹有高分子聚合物,其包裹殼層厚度在5-20 nm,形成具有核殼結構的四氧化三鐵磁
    性納米顆粒;
    將1-20質量份的四氧化三鐵磁性納米顆粒或外部包裹有高分子聚合物的四氧化三鐵
    磁性納米顆粒通過非共價作用物理吸附到1質量份的氧化石墨烯表面上;
    1質量份氧化石墨烯上引入1-50質量份的高分子聚合物;
    1質量份的高分子聚合物修飾的氧化石墨烯引入1-10質量份苯硼酸功能單體。
    3.一種權利要求1或2所述納米材料的制備方法,其特征在于:將四氧化三鐵磁性納米
    顆粒或外部包裹有高分子聚合物的四氧化三鐵磁性納米顆粒固載到氧化石墨烯上,隨后對
    氧化石墨烯進行后修飾,最后引入苯硼酸功能單體。
    4.如權利要求3所述納米材料的制備方法,其特征在于:
    所述的四氧化三鐵磁性納米顆粒粒徑在100-300 nm;或者在四氧化三鐵磁性納米顆粒
    外部包裹有高分子聚合物,其包裹殼層厚度在5-20 nm,形成具有核殼結構的四氧化三鐵磁
    性納米顆粒;包裹的殼層為高分子聚合物即聚多巴胺或聚3, 4-二羥基苯丙氨酸中的一種
    或二種。
    5.如權利要求3或4所述納米材料的制備方法,其特征在于:
    所述的四氧化三鐵磁性納米顆粒固載到氧化石墨烯上的過程為:將1-20質量份的四氧
    化三鐵磁性納米顆粒或外部包裹有高分子聚合物的四氧化三鐵磁性納米顆粒通過非共價
    π-π相互作用、氫鍵或離子鍵中的一種或二種以上的作用物理吸附到1質量份的氧化石墨烯
    表面上。
    6.如權利要求3所述納米材料的制備方法,其特征在于:
    所述對氧化石墨烯進行后修飾的過程為:將1質量份氧化石墨烯通過化學共價作用或
    者非共價π-π相互作用、氫鍵或離子鍵中的一種或二種以上的作用引入1-50質量份樹枝狀
    或者超支化高分子聚合物。
    7.如權利要求3或6所述的納米材料的制備方法,其特征在于:
    所述的引入苯硼酸功能單體的過程為:對氧化石墨烯進行修飾后,1質量份的高分子聚
    合物修飾的氧化石墨烯上通過共價鍵合引入1-10質量份苯硼酸功能單體。
    8.一種權利要求1或2所述的苯硼酸功能化的氧化石墨烯復合納米材料用于生物分析、
    生物技術領域內糖蛋白的特異識別、糖蛋白的富集、糖肽的特異識別、糖肽的富集中的一種
    或二種以上。
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專利技術附圖

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