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反應腔室的壓力控制系統及壓力控制方法

  • 專利類型:發明專利
  • 有效期:不限
  • 發布日期:2021-12-28
  • 技術成熟度:通過中試
交易價格: ¥面議
  • 法律狀態核實
  • 簽署交易協議
  • 代辦官方過戶
  • 交易成功

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  • 技術(專利)類型 發明專利
  • 申請號/專利號 CN201610962237.7 
  • 技術(專利)名稱 反應腔室的壓力控制系統及壓力控制方法 
  • 項目單位 北京北方華創微電子裝備有限公司
  • 發明人 董金衛 
  • 行業類別 智慧健康-物聯網
  • 技術成熟度 通過中試
  • 交易價格 ¥面議
  • 聯系人 許藝凡
  • 發布時間 2021-12-28  
  • 01

    項目簡介

    本發明提供了一種反應腔室的壓力控制系統及壓力控制方法,該系統包括:與反應腔室相連通的第一進氣管路、第一流量計和第一閥門;與反應腔室相連通的第一排氣管路,壓力控制閥,尾氣排放管路和第一大氣連通管路,第二閥門;與微環境腔室相連通的第二進氣管路和第二排氣管路,第二流量計,第三閥門;與微環境腔室相連通的第二大氣連通管路,壓力差測量計;將第一大氣連通管路和第二大氣連通管路相連通的連接管路和第四閥門。通過流量計來控制相應進氣管路的氣體流量、控制相應的排氣管路的啟閉以及通過壓力差測量計來控制微環境腔室與大氣壓力的壓差,來實現對反應腔室的壓力控制。
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  • 02

    說明書

    1.一種反應腔室的壓力控制系統,包括:反應腔室、微環境腔室、反應腔室與微環境腔室之間的密封門,晶圓承載裝置、在反應腔室和微環境腔室之間輸送晶圓承載裝置的傳送裝置,傳送裝置位于微環境腔室內,其特征在于,還包括:與反應腔室相連通的第一進氣管路,在第一進氣管路上設置有第一流量計和第一閥門;與反應腔室相連通的第一排氣管路,在第一排氣管路上設置的壓力控制閥,以及與通過壓力控制閥與第一排氣管路連通的尾氣排放管路和第一大氣連通管路;第一大氣連通管路上設置有第二閥門;與微環境腔室相連通的第二進氣管路和第二排氣管路,在第二進氣管路上設置有第二流量計;第二排氣管路上設置有第三閥門;與微環境腔室相連通的第二大氣連通管路,在第二大氣連通管路上設置有檢測微環境腔室壓力與大氣壓力的差值的壓力差測量計;將第一大氣連通管路和第二大氣連通管路相連通的連接管路,連接管路的一端與第一大氣連通管路相連接,另一端連接于微環境腔室和壓力差測量計之間;連接管路上設置有第四閥門;當晶圓承載裝置位于反應腔室內進行工藝時,第四閥門關閉,第二閥門打開,通過壓力差測量計來控制微環境腔室與大氣壓力的壓差;并且,第一閥門打開,通過第一流量計控制第一進氣管路的氣體進入反應腔室的氣體流量;并且調節壓力控制閥的開度來控制反應腔室的排氣量;當傳送裝置傳送晶圓承載裝置進入反應腔室或退出反應腔室時,第一閥門關閉,然后經第二進氣管路向微環境腔室通入高純惰性氣體,打開第三閥門,通過第二流量計控制進入微環境腔室的高純惰性氣體流量;第二閥門關閉,同時第四閥門開啟,通過壓力差測量計來控制微環境腔室與大氣壓力的壓差;并且,通過控制壓力控制閥的開度使尾氣排放管路和第一排氣管路連通而向外排出氣體,從而實現反應腔室壓力高于微環境腔室的壓力的控制方式。2.根據權利要求1所述的反應腔室的壓力控制系統,其特征在于,當晶圓承載裝置位于反應腔室內進行工藝時,通過第二流量計來減小第二進氣管路進入微環境腔室的氣體流量。3.根據權利要求1所述的反應腔室的壓力控制系統,其特征在于,當晶圓承載裝置位于反應腔室內進行工藝時,通過第二流量計來關閉第二進氣管路進入微環境腔室的氣體流量。4.根據權利要求1所述的反應腔室的壓力控制系統,其特征在于,所述反應腔室外設置有加熱器。5.根據權利要求1所述的反應腔室的壓力控制系統,其特征在于,所述反應腔室底部設置有保溫桶。6.一種根據權利要求1所述的系統對反應腔室進行壓力控制的方法,其特征在于,包括:當晶圓承載裝置位于反應腔室內進行工藝時的壓力控制過程和當傳送裝置傳送晶圓承載裝置進入反應腔室或退出反應腔室時的壓力控制過程;其中,當晶圓承載裝置位于反應腔室內進行工藝的壓力控制過程包括:第四閥門關閉,第二閥門打開,通過壓力差測量計來控制微環境腔室與大氣壓力的壓差;第一閥門打開,通過第一流量計控制第一進氣管路的氣體進入反應腔室的氣體流量;并且調節壓力控制閥的開度來控制反應腔室的排氣量;當傳送裝置傳送晶圓承載裝置進入反應腔室或退出反應腔室時的壓力控制過程包括:關閉第一閥門;然后經第二進氣管路向微環境腔室通入高純惰性氣體,打開第三閥門,通過第二流量計控制進入微環境腔室的高純惰性氣體流量;關閉第二閥門,同時第四閥門開啟,通過壓力差測量計來控制微環境腔室與大氣壓力的壓差;并且,通過控制壓力控制閥的開度使尾氣排放管路和第一排氣管路連通而向外排出氣體,從而實現反應腔室壓力高于微環境腔室的壓力的控制方式。7.根據權利要求6所述的方法,其特征在于,當晶圓承載裝置位于反應腔室內進行工藝時,通過第二流量計來減小第二進氣管路進入微環境腔室的氣體流量。8.根據權利要求6所述的方法,其特征在于,當晶圓承載裝置位于反應腔室內進行工藝時,通過第二流量計來關閉第二進氣管路進入微環境腔室的氣體流量。
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專利技術附圖

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