1.一種培養基材,其特征在于,在培養基材表面形成多個
凹坑部,所述凹坑部形成用于培養被培養物的隔室,彼此接近
的所述凹坑部之間的培養基材表面為非平坦面,
在平坦的底面部的上表面形成培養基材的凹坑、堤壩,
彼此接近的凹坑部之間的培養基材表面與凹坑部形成為連
續的曲面。
2.根據權利要求1所述的培養基材,其特征在于,夾在彼此
接近的所述凹坑部之間的所述非平坦面具有堤壩部。
3.根據權利要求1或2所述的培養基材,其特征在于,至少
所述凹坑部的內表面通過細胞粘附抑制劑形成覆膜。
4.根據權利要求1或2所述的培養基材,其特征在于,所述
凹坑部的開口的直徑為20μm以上且1500μm以下。
5.根據權利要求1或2所述的培養基材,其特征在于,所述
凹坑部的深度為10μm以上且1500μm以下。
6.根據權利要求1或2所述的培養基材,其特征在于,所述
多個凹坑部密集地配置在所述培養基材表面。
7.根據權利要求1或2所述的培養基材,其特征在于,在所
述培養基材表面的孔形成區域的表面形成多個所述凹坑部。
8.根據權利要求1或2所述的培養基材,其特征在于,在所
述培養基材表面的孔形成區域的表面形成10個/cm2~10000個
/cm2的所述多個凹坑部。
9.根據權利要求1或2所述的培養基材,其特征在于,所述
凹坑部是通過向所述培養基材表面照射激光而形成的。
10.根據權利要求1或2所述的培養基材,其特征在于,所述
培養基材的材質包含合成樹脂。
11.一種培養容器,其具備權利要求1~10中任一項所述的培
養基材。
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