本發(fā)明涉及具有多層的層體系的硬質(zhì)材料涂覆的主體，所述層體系包括至少一個TiAlN-硬質(zhì)材料層，并且涉及用于制造該主體的多步驟的CVD方法。該硬質(zhì)材料層主體具有多層的層體系，該層體系包括至少一個TiAlN-硬質(zhì)材料層，所述主體的特征在于，所述層體系由以下所述組成：a)由TiN、Ti(C，N)或TiC組成的施加在主體上的連接層，b)施加在連接層上的相梯度層，和c)一個或多個施加在相梯度層上的單相TiAlN-硬質(zhì)材料層或多相TiAlN-硬質(zhì)材料層，其中，所述相梯度層在其朝向連接層的側(cè)上由TiN/h-AlN相混合物組成并且在朝向一個或多個TiAlN-的硬質(zhì)材料層的方向上，隨著層厚度增加，具有份額＞50％的fcc-TiAlN的增加的相份額，并且因此具有同時產(chǎn)生的、TiN和h-AlN的相份額的減少。所述涂層可以特別用于由鋼、硬質(zhì)金屬、金屬陶瓷和陶瓷組成的工具和構(gòu)件，例如像鉆頭、銑刀以及轉(zhuǎn)位式刀片。

1.硬質(zhì)材料涂覆的主體，所述主體具有多層的層體系，所述層體
系包括施加在主體上的連接層以及至少一個單相Ti_1-xAl_xN-硬質(zhì)材料層
或多相Ti_1-xAl_xN-硬質(zhì)材料層，所述連接層由TiN、Ti(C，N)或者TiC組成，
其特征在于，在所述連接層與所述硬質(zhì)材料層之間存在的相梯度層，
所述相梯度層在所述相梯度層的朝向所述連接層的側(cè)上由TiN/h-AlN相
混合物組成并且在朝向一個或多個Ti_1-xAl_xN-的硬質(zhì)材料層的方向上，
隨著層厚度增加，具有份額＞50％的fcc-TiAlN的增加的相份額，并且因
此具有同時產(chǎn)生的TiN和h-AlN的相份額的減少。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬質(zhì)材料涂覆的主體，其特征在于，所
述多相Ti_1-xAl_xN-硬質(zhì)材料層包含有fcc-Ti_1-xAl_xN作為主相，其中，包含
有呈纖鋅礦結(jié)構(gòu)的Ti_1-xAl_xN和/或TiN作為其他的相。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬質(zhì)材料涂覆的主體，其特征在于，所
述相梯度層在所述相梯度層的厚度上具有恒定的或近似恒定的Ti、Al
和N含量。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬質(zhì)材料涂覆的主體，其特征在于，所
述相梯度層的層厚度為0.1μm至5μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬質(zhì)材料涂覆的主體，其中，在所述相
梯度層中，Ti∶Al的原子比例為1∶1至1∶15。
6.用于制造根據(jù)權(quán)利要求1至5中的一項所述的硬質(zhì)材料涂覆的
主體的方法，其特征在于，首先利用工業(yè)CVD標準工藝在主體上施加
由TiN、Ti(C，N)或者TiC組成的連接層，在所述連接層上沉積有相梯度
層，并且最后在所述相梯度層上以公知的方式借助無等離子激勵的
CVD來沉積一個或多個單相Ti_1-xAl_xN-硬質(zhì)材料層或多相Ti_1-xAl_xN-硬質(zhì)
材料層，其中，所述相梯度層的沉積利用具有連續(xù)下降的工藝溫度的
CVD工藝，在應用由TiCl₄、AlCl₃、NH₃和/或肼組成的前驅(qū)體混合物的
情況下，以與H₂和/或N₂混合的方式來進行。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，用于沉積所述相梯
度層的CVD工藝以在900℃與1050℃之間的初始溫度來開始，并且在沉
積工藝的進程中，工藝溫度連續(xù)下降直至700℃與890℃之間的結(jié)束溫
度。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，用于沉積所述相梯
度層的CVD工藝在1分鐘至60分鐘的時長內(nèi)進行。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，向用于沉積所述相
梯度層的前驅(qū)體/氣體混合物附加地混入惰性稀有氣體。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，用于沉積所述相
梯度層的CVD工藝在10²至10⁵Pa的壓強下進行。