本發明涉及一種激光薄膜元件用光學基板的清洗方法，具體步驟為：用蘸有丙酮的棉簽擦拭光學基板，直至在白熾燈照射下基板表面無肉眼可見的污染物為止；將擦拭后的基板置于第一槽堿性溶液，分別用不同頻率對基板先后進超聲清洗；將所得基板放置于第二槽中，用去離子水噴淋；將基板放置于第三槽去離子水中，分別在不同頻率下先后超聲3～6分鐘，在白熾燈下觀測基板表面潔凈度，無肉眼可見顆粒后將基板放置于第四槽去離子水中在80KHz超聲下進行慢提拉，用熱吹風將提拉后的基板干燥，即得到所需產品。本發明將清洗過程與表面檢測結合起來，將擦拭法、化學清洗法、超聲波清洗法結合起來綜合運用，以達到清洗效率高而又對基板光滑表面損傷小的最優清洗效果。

1.一種激光薄膜元件用光學基板的清洗方法，其特征在于具體步驟如下：（1）用蘸有丙酮的棉簽擦拭光學基板，直至在80W白熾燈照射下光學基板表面無肉眼可見的顆粒、指印及油跡為止；（2）將擦拭后的光學基板置于第一清洗槽的堿性溶液中，所述堿性溶液配比為NH₄OH：H₂O₂：H₂O的體積比為1:10:50，分別用20KHz、80KHz、120KHz的頻率對光學基板先后進行2～4分鐘的超聲清洗，超聲結束后以5mm/s速度將光學基板提拉出堿性溶液；(3)將步驟(2)所得的光學基板放置于第二清洗槽中，用去離子水噴淋；(4)將步驟(3)所得的光學基板放置于第三清洗槽的去離子水中，分別在20KHz、80KHz、120KHz頻率下先后超聲3～6分鐘，超聲結束后以5mm/s速度將光學基板從第三清洗槽中提拉出來，運用150W白熾燈觀測光學基板表面潔凈度，若無肉眼可見顆粒即可進入下一步驟，否則重新放入水中重復本步驟清洗；?(5)將步驟(4)所得光學基板放置于第四清洗槽的去離子水中，在80KHz超聲下進行慢提拉，提拉速度為2mm/s，用熱吹風將提拉后的光學基板干燥；其中：所述光學基板為K9玻璃基板或熔石英基板。2.根據權利要求1所述的光學基板清洗方法，其特征在于步驟(2)至（5）中所述溶液溫度為45-65攝氏度。3.根據權利要求1所述的光學基板清洗方法，其特征在于步驟(5)中所述熱吹風溫度為55-65攝氏度。