本發(fā)明涉及嵌有加熱器結(jié)構(gòu)的電加熱顆粒過(guò)濾器。具體地，提供了一種用于處理發(fā)動(dòng)機(jī)產(chǎn)生的排氣的排氣系統(tǒng)。該系統(tǒng)主要包括顆粒過(guò)濾器，其對(duì)排氣顆粒進(jìn)行過(guò)濾捕集，其中，顆粒過(guò)濾器的上游端接收發(fā)動(dòng)機(jī)排氣，并且其中，顆粒過(guò)濾器的上游表面具有經(jīng)機(jī)械加工的槽。電阻材料的格柵插入顆粒過(guò)濾器的上游外表面上的這些經(jīng)機(jī)械加工的槽中，并且選擇性地加熱流經(jīng)該格柵的排氣從而引起顆粒過(guò)濾器內(nèi)顆粒的燃燒。

1.一種用于處理發(fā)動(dòng)機(jī)產(chǎn)生的排氣的排氣系統(tǒng)，包括：
顆粒過(guò)濾器，其對(duì)排氣顆粒進(jìn)行過(guò)濾捕集，其中，顆粒過(guò)濾器的
上游端接收來(lái)自發(fā)動(dòng)機(jī)的排氣，
其特征在于，顆粒過(guò)濾器的上游表面具有經(jīng)機(jī)械加工的槽；以及
電阻材料制成的格柵，其被插入到顆粒過(guò)濾器的上游外表面的經(jīng)
機(jī)械加工的槽中從而形成該上游外表面的無(wú)覆蓋部分，并且選擇性地
加熱流經(jīng)該格柵的排氣以使顆粒過(guò)濾器內(nèi)的顆粒燃燒開(kāi)始。
2.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，經(jīng)機(jī)械加工的槽按第一模
式形成，其中，電阻材料的格柵按第二模式形成，且其中，第一模式
與第二模式相匹配。
3.如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中，第二模式是單路徑模式。
4.如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中，第二模式是多路徑模式。
5.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，經(jīng)機(jī)械加工的槽的深度使
得當(dāng)格柵被插入經(jīng)機(jī)械加工的槽中時(shí)在格柵與顆粒過(guò)濾器之間有間
隙。
6.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，電阻材料由低熱膨脹材料
組成，其中所述低熱膨脹材料是從包括鐵和鎳的組中選擇的。
7.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，還包括控制模塊，其在顆粒過(guò)濾
器再生循環(huán)的起始時(shí)期控制向格柵的通電。
8.如權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其中，控制模塊估算顆粒過(guò)濾器
內(nèi)的顆粒量，并且其中，當(dāng)該顆粒量超出閾值量時(shí)控制通電。
9.一種用于處理發(fā)動(dòng)機(jī)產(chǎn)生的排氣的排氣系統(tǒng)，包括：
接收發(fā)動(dòng)機(jī)排氣的催化劑，其中，催化劑的下游端從催化劑中釋
放排氣，并且其中催化劑的下游外表面具有經(jīng)機(jī)械加工的槽；以及
電阻材料制成的格柵，其被插入到催化劑的下游外表面的經(jīng)機(jī)械
加工的槽中從而形成該下游外表面的無(wú)覆蓋部分，并且選擇性地加熱
流經(jīng)該格柵的排氣。
10.如權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，還包括置于催化劑下游并且對(duì)排
氣顆粒進(jìn)行過(guò)濾捕集的顆粒過(guò)濾器，并且其中，來(lái)自格柵的被加熱排
氣使顆粒過(guò)濾器內(nèi)顆粒的燃燒開(kāi)始。
11.如權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中，經(jīng)機(jī)械加工的槽按第一模
式形成，其中，電阻材料的格柵按第二模式形成，并且其中，第一模
式與第二模式相匹配。
12.如權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其中，第二模式是單路徑模式。
13.如權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其中，第二模式是多路徑模式。
14.如權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中，經(jīng)機(jī)械加工的槽的深度使
得當(dāng)格柵被插入經(jīng)機(jī)械加工的槽中時(shí)在格柵與催化劑之間有間隙。
15.如權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中，電阻材料由低熱膨脹材料
組成，其中所述低熱膨脹材料是從包括鐵和鎳的組中選擇的。
16.如權(quán)利要求10所述的系統(tǒng)，還包括控制模塊，其在顆粒過(guò)
濾器再生循環(huán)的起始時(shí)期控制向格柵的通電。
17.如權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中，控制模塊估算顆粒過(guò)濾
器內(nèi)的顆粒量，并且其中，當(dāng)該顆粒量超出閾值量時(shí)控制通電。