本發(fā)明提供一種系統(tǒng)和方法，采用了用于從半導(dǎo)體加工裝置中的氣體去除污染物的設(shè)備，其可包括過濾器單元，在其中設(shè)置有至少兩個平行的過濾器臺。所述過濾器臺被構(gòu)造成去除出現(xiàn)在流經(jīng)其的氣體中的至少一部分污染物。所述設(shè)備還可包括用于在所述過濾器臺中分配氣流的流量控制器。在一個實(shí)施例中，所述控制器可包括擴(kuò)散板。本發(fā)明還提供了用于本發(fā)明的系統(tǒng)或方法中的氣流控制的采樣管口。在另一個實(shí)施例中，用于從凈化室中的氣體中去除污染物的設(shè)備包括過濾器單元，其具有至少兩個平行的過濾器臺，它們被用于在氣體經(jīng)過所述設(shè)備時去除所述氣體中的一部分污染物。

1.一種用于從半導(dǎo)體加工裝置中的氣體中去除污染物的設(shè)備，所述設(shè)備包括：過濾器單元，在其中設(shè)置有多個平行的過濾器臺，以便從經(jīng)過所述過濾器單元的氣流中去除至少一部分所述污染物；以及流量控制器，其用于將所述氣流分配經(jīng)過所述平行的過濾器臺，其中所述流量控制器被構(gòu)造成將相同量的所述氣體發(fā)送至所述多個過濾器臺的每個過濾器臺。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述流量控制器包括擴(kuò)散板。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述流量控制器是主動流量控制器。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備是空氣過濾系統(tǒng)。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其特征在于，所述多個過濾器臺的每個過濾器臺包括多個過濾器模塊。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其特征在于，所述多個過濾器臺布置成矩陣形式，其中所述矩陣至少具有兩排和兩列。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其特征在于，所述污染物包?括胺類。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的設(shè)備，其特征在于，所述多個過濾器臺的每個過濾器臺包含具有物理吸著性介質(zhì)的過濾器模塊。9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的設(shè)備，其特征在于，所述多個過濾器臺的每個過濾器臺包含具有化學(xué)吸著性介質(zhì)的過濾器模塊。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其特征在于，所述化學(xué)吸著性過濾介質(zhì)包括酸性材料，其選自磺化材料以及羧基官能團(tuán)。11.一種用于從半導(dǎo)體加工裝置中的氣體中去除污染物的設(shè)備，所述設(shè)備包括：過濾器單元，在其中設(shè)置有多個平行的過濾器臺，以便從經(jīng)過所述過濾器單元的氣流中去除至少一部分所述污染物；擴(kuò)散板，其具有用于接收所述氣體的輸入面以及用于將所述氣體發(fā)送至所述多個過濾器臺的輸出面，所述擴(kuò)散板還安裝在所述過濾器單元內(nèi)，并且被構(gòu)造成將相同量的所述氣體發(fā)送至所述多個過濾器臺的每個過濾器臺；以及多個采樣端口，它們用于提取表示經(jīng)過所述多個過濾器臺的每個過濾器臺的所述量的氣體的試樣。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其特征在于，所述擴(kuò)散板具有在其上布置成一定圖案的多個孔，所述多個孔中的每個孔從所述輸入面穿至所述輸出面，并且允許所述氣體流經(jīng)所述孔，所述孔的圖案有助于在所述輸出面與所述多個過濾器臺之間的均勻的氣流。?13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其特征在于，至少一組所述孔可被操作成打開，以便允許所述氣體通過其；或者可選地可關(guān)閉，以防止所述氣體流經(jīng)其。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的設(shè)備，其特征在于，所述至少一組的所述孔的所述打開和所述關(guān)閉通過控制器被控制。15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其特征在于，所述多個過濾器臺的每個過濾器臺包括多個過濾器模塊。16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備還包括輸入采樣端口，以便在流經(jīng)所述多個過濾器臺之前采樣所述氣體；以及輸出采樣端口，以便在流經(jīng)所述多個過濾器臺之后采樣所述氣體。17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備還包括檢測器，其聯(lián)通地與所述多個采樣端口、即所述輸入采樣端口和所述輸出采樣端口相連，每個所述采樣端口可選地利用開口，所述開口具有提供氣體流出的直徑。18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備還包括控制器，以便控制所述檢測器的操作。19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的設(shè)備，其特征在于，所述污染物包括胺類。20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的設(shè)備，其特征在于，所述多個過?濾器模塊中的至少一個過濾器模塊包括物理吸著性過濾介質(zhì)。21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的設(shè)備，其特征在于，所述物理吸著性過濾介質(zhì)包括活性碳。22.根據(jù)權(quán)利要求19所述的設(shè)備，其特征在于，所述多個過濾器模塊中的至少一個過濾器模塊包括化學(xué)吸著性過濾介質(zhì)。23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的設(shè)備，其特征在于，所述化學(xué)吸著性介質(zhì)包括酸性材料。24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的設(shè)備，其特征在于，所述酸性材料包括磺化材料。25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的設(shè)備，其特征在于，所述酸性材料包括羧基官能團(tuán)。26.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其特征在于，所述多個采樣端口中的至少一個采樣端口連接至匯聚污染物的收集器。27.一種利用過濾器單元從半導(dǎo)體加工裝置中的氣體中去除污染物的方法，所述方法包括以下步驟：接收輸入氣體；在使得所述氣體可用于安置在所述過濾器單元中的多個過濾器臺之前將所述氣體通過流量控制器；將一部分所述氣體通過所述多個平行的過濾器臺的每個過濾器臺，以去除至少一部分所述污染物，?其中所述流量控制器被構(gòu)造成將相同量的所述氣體發(fā)送至所述多個過濾器臺的每個過濾器臺。28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的方法，其特征在于，所述流量控制器包括擴(kuò)散板。29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的方法，其特征在于，所述過濾器單元位于凈化室中。30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的方法，其特征在于，所述多個平行的過濾器臺的每個過濾器臺包括多個過濾器模塊。31.根據(jù)權(quán)利要求29所述的方法，其特征在于，所述多個過濾器臺布置成矩陣的形式，其至少具有兩排和兩列。32.根據(jù)權(quán)利要求30所述的方法，其特征在于，所述過濾器單元還包括多個采樣端口，以便采樣相應(yīng)的多個過濾器臺。33.根據(jù)權(quán)利要求32所述的方法，其特征在于，所述過濾器單元還包括檢測器，其聯(lián)通地連接至所述采樣端口。34.根據(jù)權(quán)利要求33所述的方法，其特征在于，所述過濾器單元還包括用于在至少一部分所述氣體到達(dá)所述多個過濾器臺之前對其采樣的輸入采樣端口；以及輸出采樣端口，用于至少一部分所述氣體流經(jīng)所述多個過濾器臺之后對其采樣，所述輸入采樣端口和所述輸出采樣端口還聯(lián)通地連接至所述檢測器。35.根據(jù)權(quán)利要求34所述的方法，其特征在于，所述過濾器?單元還包括用于監(jiān)控所述過濾器單元的操作的控制器。36.根據(jù)權(quán)利要求35所述的方法，其特征在于，所述多個過濾器模塊中的至少一個過濾器模塊包括物理吸著性介質(zhì)。37.根據(jù)權(quán)利要求35所述的方法，其特征在于，所述多個過濾器模塊中的至少一個過濾器模塊包括化學(xué)吸著性介質(zhì)。?