適用于工業規模制備式(I)化合物或其藥學上可接受的鹽的方法，其中R和R表示H；或R表示乙基和R表示正己氧基羰基；可用于其制備的新中間體，以及制備所述中間體的方法。

1.下式(II-HCl)化合物，

其呈晶型，基本上不含其它晶型，在X-射線衍射儀中采用Cu?Kα
射線(1.5418)測量，該晶型顯示包括2θ角度值在6.8、7.8、9.2、11.7、
12.3、15.6、18.4和23.5的X射線粉末衍射圖樣，并且其中所述X
射線粉末衍射圖樣基本上如圖6所示。
2.下式(II-HCl)化合物，

其呈晶型，在X-射線衍射儀中采用Cu?Kα射線(1.5418)測量，
該晶型顯示包括2θ角度值在6.8、7.1、7.8、9.2、11.7、12.3、15.6、
18.4和23.5的X-射線粉末衍射圖樣，并且其中所述X射線粉末衍射
圖樣基本上如圖1所示。
3.下式(II-HCl)化合物，

其呈晶型，基本上不含其它晶型，在X-射線衍射儀中采用Cu?Kα
射線(1.5418)測量，該晶型顯示包括2θ角度值在6.7、9.4、14.1、
17.6、18.0、19.8、21.9、23.6、24.0和27.7的X-射線粉末衍射圖樣，
并且其中所述X射線粉末衍射圖樣基本上如圖7所示。