一種在生產(chǎn)環(huán)境中、以大部分測(cè)量裝置運(yùn)動(dòng)最少的方式測(cè)量大型、非平坦、鏡面薄板的形貌結(jié)構(gòu)的方法。使用安裝了萬(wàn)向架的反射元件操控短相干長(zhǎng)度的探針束，使得該探針束基本垂直于基板的局部表面。將該探針束和參考束組合，使用產(chǎn)生的干涉圖案來(lái)表征該局部表面上的缺陷。

1.一種表征基板上的表面缺陷的方法，所述方法包括：提供相干輻射束；提供非平坦的鏡面基板；將該輻射束分成探針束和參考束；用第一反射元件截取并反射該探針束，以垂直輻照該基板上包含表面缺陷的局部表面，其中，該局部表面相對(duì)于該探針束的縱軸傾斜；用第二反射元件截取并反射該參考束；采集自該局部表面反射的探針束以及自該第二反射元件反射的參考束；將自該第二反射元件反射的參考束以及自該局部表面反射的探針束組合，從而形成由局部表面傾斜產(chǎn)生的第一組干涉條紋以及由表面缺陷產(chǎn)生的第二組干涉條紋；檢測(cè)第一組和第二組干涉條紋；用第一反射元件操控探針束，使由局部表面傾斜產(chǎn)生的干涉條紋的數(shù)目最小；使用檢測(cè)到的、由表面缺陷產(chǎn)生的干涉條紋表征該缺陷。2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，該基板的厚度大于該輻射束的相干長(zhǎng)度。3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，檢測(cè)步驟包括輻照傳感器上的二維像素陣列。4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，探針束經(jīng)過(guò)的光程長(zhǎng)度基本等于參考束經(jīng)過(guò)的光程長(zhǎng)度。5.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，該輻射束的相干長(zhǎng)度小于300微米。6.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，該第一反射元件繞兩個(gè)正交軸旋轉(zhuǎn)。7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，該局部表面和表面缺陷位于基板上與第一反射元件相對(duì)的一面上。8.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，操控步驟包括對(duì)準(zhǔn)探針束，使該探針束的縱軸基本垂直于該局部表面。